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化学气相沉PPT课件(共55页)

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化学气相沉积ChemicalVaporDeposition制作：木子雨若化学气相沉积概述•一、化学气相沉积的原理•二、化学气相沉积的工艺方法•三、化学气相沉积的特点与应用•四、PVD和CVD两种工艺的对比•五、化学气相沉积的新进展一、化学气相沉积的原理定义：化学气相沉积（Chemicalvapordeposition)简称CVD技术，是利用加热、等离子体激励或光辐射等方法，从而形成所需要的固态薄膜或涂层的过程。从理论上来说，它是很简单的：将两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到基体表面上。一、化学气相沉积的原理原理：CVD是利用气态物质在固体表面进行化学反应，生成固态沉积物的过程三个步骤1.产生挥发性物质2.将挥发性物质运到沉积区3.挥发性物质在基体上发生化...

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