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化学机械抛光中抛光皮知识讲解PPT课件下载(共20页)

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目录1.化学机械抛光简介2.抛光皮的分类3.抛光皮的作用4.抛光皮的制造工艺5.影响抛光皮性能的因素6.化学机械抛光的发展趋势1-1化学机械抛光化学机械抛光--CMP(ChemicalMechanicalPolishing)CMP是化学的和机械的综合作用,在一定压力及抛光浆料存在下,在抛光液中的腐蚀介质作用下工件表面形成一层软化层，抛光液中的磨粒对工件上的软化层进行磨削，因而在被研磨的工件表面形成光洁表面。1-2化学机械抛光基本结构1.循环泵2.抛光液3.过滤磁环4.抛光机喷嘴5.工件6.压力钢柱7.抛光皮8.抛光盘9.回收箱lO.磁环1-3化学机械抛光去毛刺机理抛光液中的腐蚀介质与被抛光表面材料发生了化学反应,生成很薄的剪切强度很低的化学反应膜,反应膜在磨粒磨削作用下被去处,从而露出新的表面,接着又继续反应生成新的反应膜,如...

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