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化学气相沉积PPT课件下载

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化学气相沉积ChemicalVaporDeposition,CVD主要内容：CVD的基本原理CVD的特点CVD方法CVD的现状和展望一、CVD的基本原理化学气相沉积（ChemicalVaporDeposition,CVD）利用气态物质在一固体表面上进行化学反应，生成固态沉积物的过程。1、CVD的基本条件1）足够高的温度：气体与机体表面作用、反应沉积时需要一定的激活能量，故CVD要在高温下进行。当然，以等离子体、激光提过激活能量，可降低反应的温度。2）反应物必须有足够高的蒸气压。3）除了要得到的固态沉积物外，化学反应的生成物都必须是气态。4）沉积物本身的饱和蒸气压应足够低。2、CVD过程反应气体向基体表面扩散反应气体吸附于基体表面在基体表面上产生的气相副产物脱离表面留下的反应产物形成覆层3、CVD几种典型化学反应1）热分解2）还原3）氧化...

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